繼江豐電子后，又一家國產濺射靶材企業福建阿石創新材料股份有限公司今日正式登陸A股深交所創業板。超大規模集成電路和顯示面板、太陽能電池等電子材料被美、日跨國公司壟斷的局面的正在得到改善。

招股說明書顯示，阿石創專業從事各種 PVD 鍍膜材料研發、生產和銷售，主導產品為濺射靶材和蒸鍍材料兩個系列產品，主要應用于光學光電子產業，用以制備各種薄膜材料。產品已在平板顯示、光學元器件、節能玻璃等領域得到廣泛應用，并已研發出應用于太陽能電池、半導體等領域的多款產品，是國內 PVD 鍍膜材料行業產品品種較為齊全、應用領域較為廣泛、工藝技術較為全面的綜合型 PVD 鍍膜材料生產商。

PVD 鍍膜材料主要用以制備各種具有特定功能的薄膜材料，應用領域包括平板顯示、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件、節能玻璃、LED、 工具改性、高檔裝飾用品等。

薄膜材料制備技術主要包括物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。PVD 技術是制備薄膜材料的主要技術之一，指在真空條件下采用物理方法， 將某種物質表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或 等離子體）過程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料的技術。在 PVD 技術下，用于制備薄膜材料的物質，統稱為 PVD 鍍膜材料。經過多年發展， PVD 技術已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜。

濺射鍍膜是指利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速 度的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面 的原子離開固體并沉積在基板材料表面的技術。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄 膜材料的原材料，稱為濺射靶材。

濺射鍍膜基本原理

2016年12月，工信部、發改委、財政部、科技部聯合發布《新材料產業發展指南》，部分新一代信息技術產業用材料被列入需突破的重點應用領域急需的新材料，并要求加強大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅單晶、高純金屬及合金濺射靶材生產技術研發，加快高純特種電子氣體研發及產業化，解決極大規模集成電路材料制約。

2017年6月，工信部發布《重點新材料首批次應用示范指導目錄(2017年版)》，提出了平板顯示用ITO靶材、平板顯示用高純鉬靶材等重點新材料的應用領域。

 濺射靶材生產工藝流程

 招股說明書顯示，阿石創濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。

逐鹿濺射靶材市場

招股說明書顯示，濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均 勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點， 已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應 用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量最大的 PVD 鍍膜材料。

招股說明書顯示，根據中國電子材料行業協會數據，2016年全球高純濺射靶材市場規模約為 113.6 億美元，其中平板顯示（含觸控屏）用靶材為 38.1 億美元、半導體用靶材 11.9 億美元、太陽能電池用靶材 23.4 億美元、記錄媒體靶材 33.5 億美元。到2019 年，全球高純濺射靶材市場規模將超過 163 億美元，年復合增長率達 13%。

 招股說明書顯示，長期以來全球 PVD 鍍膜材料研制和生產主要集中于美國、日本及德國等國家的少數公司，產業集中度較高。經過幾十年的技術積淀，這些國外廠商憑借其雄厚的技術力量、精細的生產控制和過硬的產品質量居于全球高端 PVD 鍍膜材料市場的主導地位。受到發展歷史和技術限制的影響，PVD 鍍膜材料行業在我國起步較晚，目前仍屬于一個較新的行業。與國際知名企業生產的 PVD 鍍膜材料相比，我國 PVD 鍍膜材料研發生產技術總體上還存在一定差距，市場影響力相對有限，尤其在平板顯示、半導體、太陽能電池等領域，全球高端 PVD 鍍膜材料市場依然以美國、 日本及德國等國家的 PVD 鍍膜材料生產廠商為主導。但是近幾年我國 PVD 鍍膜材料生產企業在技術和市場方面都取得了長足的進步，正逐步改變高端 PVD 鍍膜材料長期依賴進口的不利局面。