濺射靶材是電子行業發展的重要基礎，濺射靶材技術應用在微電子領域、顯示器、儲存、激光存儲器、電子控制器件等行業具有重要的意義，對這些行業來說，濺射板材技術的高低對這些行業的發展具有主導性作用。無論是濺射板材的上游企業還是到濺射板材的下游企業，濺射板材的技術水平不僅僅代表一個行業的技術，而且是代表整個產業鏈的技術水準，隨著芯片技術的發展，對高端濺射板材的需求越來越多，濺射板材行業市場也變得非常火爆！

目前濺射靶材的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關，隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進，靶材技術也應隨之變化。如Ic制造商.近段時間致力于低電阻率銅布線的開發，預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發將刻不容緩。

濺射靶材雖然市場廣闊，我們也對于市場上的濺射靶材進行分類，我們常把濺射靶材分為以下幾類
1、濺射靶材根據形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶
2、濺射靶材根據成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
3、濺射靶材根據應用不同又分為半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等
4、濺射靶材根據應用領域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材

近年來平面顯示器(FPD)大幅度取代原以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場.亦將大幅增加ITO濺射靶材的技術與市場需求。此外濺射靶材在存儲技術方面，高密度、大容量硬盤，高密度的可擦寫光盤的需求持續增加.這些均導致應用產業對濺射靶材的需求發生變化。